Világelső 45 nanométeres mikrochip

A vállalat megalkotta az első működőképes 45 nanométeres csíkszélességgel gyártott SRAM (statikus RAM) lapkáját.

Mindez azt jelenti, hogy az Intel a legjobb úton halad, hogy 2007-ben ezzel a technológiával és 300 milliméteres szilícium ostyákat felhasználva gyártson lapkákat, illetve hogy kétévente új gyártási technológiák bevezetésével továbbra is ˝feszegesse˝ a Moore törvény határait.

Jelenleg az Intel az iparágban első a félvezetők 65 nanométeres tömeggyártásában. Arizonai és oregoni gyártó egysége készít 65 nanométeres technológiával chipeket, ám hamarosan egy írországi és egy újabb oregoni fab is munkába áll.

˝Az hogy az Intel elsőként gyártott nagy volumenben 65 nanométeres technológia alkalmazásával, és elsőként állított elő 45 nanométeres csipet, jelzi a cég elsőségét a lapkagyártásban és technológiában˝ – mondta Bill Holt, az Intel technológia és gyártás csoportjának alelnök-vezérigazgatója. ˝Az Intel mindig is arra törekedett, hogy a technológiai ugrásokat (˝leaps˝) az emberek által is nagyra értékelt, kézzelfogható újítások formájában valósítsa meg. 45 nanométeres technológiánk megteremti majd a lehetőséget arra, hogy olyan, nagyobb teljesítményű személyi számítógépek kerüljenek a piacra, amelyek még teljesebbé teszik a felhasználói élményt˝.

Az Intel 45 nanométeres gyártástechnológiájú lapkáinál az új eljárásnak köszönhetően kevesebb mint ötödére csökken a szivárgási áram. Ez hosszabb akkumulátoridőt biztosít a mobil eszközök számára, valamint méretben kisebb, ámde nagyobb teljesítményű platformok építését teszi lehetővé.

A 45 nanométeres SRAM lapkák több mint egymilliárd tranzisztort tartalmaznak. Noha nem kereskedelmi termék, az SRAM segítségével még a 45 nanométeres processzorok és más logikai chipek gyártásának felfuttatása előtt demonstrálható a technológia színvonala, a kihozatal és a chipek megbízhatósága. Ez a világ legkomplexebb eszközeinek tömeggyártása felé tett első, ámde kulcsfontosságú lépés.

A 45 nanométeres fejlesztések az Intel oregoni D1D gyártó üzemében jelenleg is folynak, és emellett a társaság két új fab építéséről is beszámolt. Az arizonai Fab 32, és a Fab 28 Izraelben szintén 45 nanométeres csíkszélességű gyártástechnológiát alkalmaz majd a lapkák tömeges előállítására.