Kis fogyasztás, nagy teljesítmény: ontja a 45 nm-es processzorokat az Intel

Az Intel hivatalosan megkezdte asztali és mobil számítógépekbe, valamint szerverekbe és egyéb eszközökbe szánt új generációs processzorainak tömegtermelését az arizonai Chandlerben található legújabb gyártóegységében, mely kifejezetten a 45 nanométeres gyártástechnológiára szakosodott. Az új gyártóegység, mely a “Fab 32” nevet viseli, 3 milliárd dollárt érő befektetés. A jövőben itt készülő processzorok előállításánál a 45 nanométeres gyártástechnológiát alkalmazzák – ezek a tranzisztorok a fejlesztéseknek köszönhetően jelentősen kevesebb energiaszivárgást engednek. Újfajta komponensekből épülnek fel és olyan aprók, hogy több mint két millió darab férne a mondatvégén található pontra. Sok százmilliónyi ilyen apró tranzisztor építi fel az Intel hatékony energia felhasználású ólom- és halogénmentes processzorait.

A Fab 32 az Intel hatodik 300 milliméter átmérőjű szilíciumostyát (wafer) használó üzeme, és a második, amelyben 45 nanométeres lapkák készülnek. Az Intel először januárban a D1D néven ismert oregoni fejlesztői létesítményében állított elő 45 nanométeres processzorokat, és most kezdi a tömeggyártást a Fab 32 megnyitásával. Az Intel két további, 300 mm-es szilíciumszeleteken 45 nm-es chipek előállítására alkalmas gyár jövő évi beindítását tervezi, név szerint a Fab 28 (Izrael) és Fab 11x (Rio Rancho, Új-Mexikó). A 300 mm-es szilíciumostyák használatával csökken az egy processzorra jutó előállítási költség, és az erőforrások is takarékosabban hasznosíthatóak.

A 17.000 négyzetméter tisztahelységgel (clean room) rendelkező, összesen körülbelül 100.000 négyzetméteres alapterületű Fab 32 akkora, hogy 17 futballpálya is elférne az épületben. Még ennél is figyelemreméltóbb, hogy a gyárnak több mint 1000 dolgozója lesz: többek között folyamattervező, automatikai, anyagtudományi mérnökök és gyártástechnikusok.

Környezetvédelem a tranzisztortól a gyárig
A Fab 32 számos energia és víz fenntartási eljárás alkalmazásával az Intel egyik legkörnyezetbarátabb gyára, mely egyben tükrözi a vállalat környezettudatos működésének eredményeit. Az Intel 45 nanométeres gyártási technológiája 15 százalékkal csökkenti a globális felmelegedést okozó gázok kibocsátását és a Fab 32 az Intel Arizona vízvédelmi és újrafelhasználási programjának alkalmazásával a víz több mint 70 százalékát megóvja.

Az Intel egyúttal bejelentette szándékát arra vonatkozóan is, hogy a vállalat első, újfajta kritériumokon alapuló, ilyen típusú létesítményekhez létrehozott LEED (Leadership in Energy and Environmental Design) minősítést megszerezze a gyár számára, elsőként az Intel történetében. A környezetbarát, “zöld” épületeket besoroló rendszert a U.S. green Building Council fejlesztette ki. A LEED egy sor, fenntartható környezetvédelmi konstrukciót tartalmazó szabványt foglal magában. A minősítési folyamat a gyáregység működéséhez kapcsolódó több hónapnyi adat feldolgozását igényli.

Első 45 nanométeres csíkszélességgel előállított processzorait november 12-én mutatja be az Intel.